[发明专利]一种暗场显微大视场自动拼接成像方法

摘要

本发明公开了一种暗场显微大视场自动拼接成像方法，在获取图像的方法上面创新性的提出了采用二次成像的方法，第一次成像采用恒定光源，恒定曝光及光圈以获得背景均匀的子孔径图像，第二次成像自适应曝光，结合带通滤波器的理论推导，对第二次成像使用潜在目标检测分析，检测图像中的目标物并对其进行合理一致的拉伸，对两次成像融合构建新的背景和目标图像；通过图像算法自动拼接。本发明提出的二次成像方法，对于第一次成像能够获得背景均匀的子孔径图像，能够稳定的保证拼接时子孔径背景的均匀性和弱化拼接的缝隙，对于第二次成像能有效凸显不同尺寸的样品瑕疵，稳定且高效。

主权项

1.一种暗场显微大视场自动拼接成像方法，包括如下步骤：步骤一、设计一个暗场显微成像装置，装置主要由光学显微镜，标准光源以及红外激光装置构成；步骤二、在设计完成的成像装置上进行二次成像，所获的子孔径图像分别为Mi和Ni(i＝1,2,3...n)；步骤三、针对于第二次成像，采用潜在目标检测分析的方法，找出潜在目标的位置并对其进行合理的拉伸操作；步骤四、将两次成像后处理的图像进行加权融合，获得新的明暗凸显，背景均匀的子孔径图像Pi；步骤五、将新获得的子孔径图像Pi(i＝1,2,3...n)进行直接拼接。