[发明专利]空穴传输层、其制备方法及半导体光电器件有效

专利信息
申请号: 201810787349.2 申请日: 2018-07-17
公开(公告)号: CN108899433B 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: 陈雨 申请(专利权)人: 嘉兴纳鼎光电科技有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/54;H01L51/56
代理公司: 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 代理人: 叶蕙;王锋
地址: 314000 浙江省嘉兴市海*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种空穴传输层,所述空穴传输层的材质包括P型半导体材料,所述p型半导体材料为掺杂低价态金属元素的钙钛矿材料,所述低价态金属元素的价态为+1价。所述空穴传输层的制备方法包括:将M1X2、M2X及有机溶剂混合反应得到混合反应液;形成薄膜层;一次退火处理;薄膜层置入含AX的有机溶液,经清洗、二次退火处理,形成空穴传输层。本发明还公开了一种半导体光电器件,所述半导体光电器件包括空穴传输层。本发明另公开了一种半导体光电器件的制备方法,包括制备空穴传输层的步骤,并公开一种量子点发光二极管器件的制作方法,包括制备第一电极、空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层及第二电极的步骤。
搜索关键词: 空穴 传输 制备 方法 半导体 光电 器件
【主权项】:
1.一种空穴传输层,其特征在于:所述空穴传输层的材质包括P型半导体材料,所述P型半导体材料为掺杂低价态金属元素的钙钛矿材料,所述低价态金属元素的价态为+1价。
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