[发明专利]空穴传输层、其制备方法及半导体光电器件有效
申请号: | 201810787349.2 | 申请日: | 2018-07-17 |
公开(公告)号: | CN108899433B | 公开(公告)日: | 2020-06-16 |
发明(设计)人: | 陈雨 | 申请(专利权)人: | 嘉兴纳鼎光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/54;H01L51/56 |
代理公司: | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人: | 叶蕙;王锋 |
地址: | 314000 浙江省嘉兴市海*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: |
本发明公开了一种空穴传输层,所述空穴传输层的材质包括P型半导体材料,所述p型半导体材料为掺杂低价态金属元素的钙钛矿材料,所述低价态金属元素的价态为+1价。所述空穴传输层的制备方法包括:将M1X |
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搜索关键词: | 空穴 传输 制备 方法 半导体 光电 器件 | ||
【主权项】:
1.一种空穴传输层,其特征在于:所述空穴传输层的材质包括P型半导体材料,所述P型半导体材料为掺杂低价态金属元素的钙钛矿材料,所述低价态金属元素的价态为+1价。
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