[发明专利]一种化学机械抛光机在审
| 申请号： | 201810788574.8 | 申请日： | 2018-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN108908095A | 公开（公告）日： | 2018-11-30 |
| 发明（设计）人： | 李敏 | 申请（专利权）人： | 江阴大手印精密材料科技发展有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/11 | 分类号： | B24B37/11;B24B37/27;B24B37/34;B24B57/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 214400 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光机，包括晶片载体，抛光头，移动机构以及旋转机构，晶片载体具有支撑表面，支撑表面配置成在其上承载晶片，抛光头位于晶片载体上方，抛光头具有抛光表面，抛光头的抛光表面小于晶片载体的支撑表面，移动机构被配置为相对于晶片载体移动抛光头，旋转机构配置成使抛光头相对于晶片载体旋转。本发明的一种化学机械抛光机，适用于现有化学机械抛光的装置需求。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片载体 抛光头 化学机械抛光机 支撑表面 抛光表面 旋转机构 移动机构 配置 化学机械抛光 承载晶片 移动 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光机，其特征在于，包括：晶片载体，具有支撑表面，所述支撑表面构造成在其上承载晶片；抛光头位于晶片载体上方，抛光头具有抛光表面，其中抛光头的抛光表面小于晶片载体的支撑表面；移动机构，其构造成使抛光头相对于晶片载体移动；以及旋转机构，被配置为使抛光头相对于晶片载体旋转。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江阴大手印精密材料科技发展有限公司，未经江阴大手印精密材料科技发展有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810788574.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
