[发明专利]调节机构、微透镜阵列系统及曝光机

摘要

本发明涉及一种调节机构、微透镜阵列系统及曝光机，调节机构包括调节箱；第一安装座，用于安装微透镜阵列；及调节件，调节件的一端伸入调节箱，调节件呈间距设有多个、并呈可伸缩地设于调节箱的外侧，调节件伸缩、并抵压第一安装座、使第一安装座在第一方向和第二方向进行移动。微透镜阵列包括调节机构。曝光机包括微透镜阵列系统。通过调节件的设置，当需要调节微透镜阵列与曝光组件之间的位置关系时，调节多个调节件伸入调节箱的深度，使不同调节件抵压第一安装座、从而使第一安装座的位置发生变化，实现调整第一安装座上微透镜阵列位置的技术效果，从而使微透镜阵列的凹面点阵列与曝光组件的像素阵列一一对应，提高后续的图形曝光质量。

主权项

1.一种调节机构，其特征在于，包括：调节箱，所述调节箱设有第一通窗；第一安装座，所述第一安装座设于所述调节箱内、并用于安装微透镜阵列，所述微透镜阵列与所述第一通窗对应设置；及调节件，所述调节件的一端伸入所述调节箱，所述调节件呈间距设有多个、并呈可伸缩地设于所述调节箱的外侧，所述调节件伸缩、并抵压所述第一安装座、使所述第一安装座在第一方向和第二方向进行移动。