[发明专利]掩膜板及金属线的制作方法在审
| 申请号： | 201810793130.3 | 申请日： | 2018-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN109143774A | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | 叶成亮 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/38 | 分类号： | G03F1/38;H01L21/77 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人： | 林才桂;王中华 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种掩膜板及金属线的制作方法。所述掩膜板包括：横向遮光条以及与所述横向遮光条交叉的纵向遮光条，所述横向遮光条与纵向遮光条交叉区域的四角形成有多个间隔排列的透光狭缝，所述透光狭缝相对于所述横向遮光条倾斜设置且每一个透光狭缝均从所述横向遮光条与纵向遮光条交叉区域的一角向靠近所述横向遮光条与纵向遮光条交叉区域的中心的方向延伸，利用形成于所述横向遮光条与纵向遮光条交叉区域的四角的透光狭缝，能够避免采用该掩膜板制作十字交叉的金属线时在金属线交叉区域的四角形成楔形图案，从而减少显示面板的漏光，提升显示面板的显示品质。 | ||
| 搜索关键词： | 横向遮光条 交叉区域 遮光条 透光狭缝 金属线 掩膜板 显示面板 制作 方向延伸 间隔排列 倾斜设置 十字交叉 显示品质 漏光 楔形 图案 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜板，其特征在于，包括：横向遮光条(10)以及与所述横向遮光条(10)交叉的纵向遮光条(20)，所述横向遮光条(10)与纵向遮光条(20)交叉区域的四角形成有多个间隔排列的透光狭缝(30)，所述透光狭缝(30)相对于所述横向遮光条(10)倾斜设置且每一个透光狭缝(30)均从所述横向遮光条(10)与纵向遮光条(20)交叉区域的一角向靠近所述横向遮光条(10)与纵向遮光条(20)交叉区域的中心的方向延伸。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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