[发明专利]一种基于氧化钼微米带/p型Si的多波段光响应器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810804323.4 申请日: 2018-07-20
公开(公告)号: CN109037372B 公开(公告)日: 2019-12-24
发明(设计)人: 于乃森;陈向丰;齐岩;赵海燕;苑青;董斌 申请(专利权)人: 大连民族大学
主分类号: H01L31/032 分类号: H01L31/032;H01L31/109;H01L31/18
代理公司: 21235 大连智高专利事务所(特殊普通合伙) 代理人: 祝诗洋
地址: 116600 辽宁省*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明涉及一种基于氧化钼微米带/p型Si的多波段光响应器件及其制备方法,属于光电探测技术领域。该器件为多层结构,自下而上依次为p型Si衬底、SiO
搜索关键词: 微米带 绝缘薄层 衬底 制备 多波段光 响应器件 薄膜层 氧化钼 单根 可见光 多层结构 工艺操作 光电探测 结构接触 制造成本 光响应 催化剂 薄膜 响应 覆盖
【主权项】:
1.一种基于氧化钼微米带/p型Si的多波段光响应器件的制备方法,其特征在于,具体包括如下步骤:/n①以p型Si为衬底,在衬底上分成镀膜区和非镀膜区,首先对非镀膜区采用绝缘胶带进行遮挡,然后采用磁控溅射生长SiO
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