[发明专利]模块加压工作站及利用其处理半导体的方法有效
申请号: | 201810811318.6 | 申请日: | 2018-07-23 |
公开(公告)号: | CN109841552B | 公开(公告)日: | 2021-05-11 |
发明(设计)人: | 黄俊荣;徐永璘;徐光宏;陈宗纬;黄文育;杨岳仑 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明揭露一种模块加压工作站及利用其处理半导体工件的方法。在一实施例中,模块加压工作站系统包含和工作站本体接合的第一加压负载端;和工作站本体接合的第二加压负载端;维持在设定压力水平的工作站本体,其中工作站本体包含内部材料处理系统,配置以在设定压力水平下且在第一负载端和第二加压负载端之间的工作站本体内移动半导体工件;和第一加压负载端接合的第一模块工具,其中第一模块工具配置以处理半导体工件;以及和第二加压负载端接合的第二模块工具,其中第二模块工具配置以检查由第一模块工具处理的半导体工件。 | ||
搜索关键词: | 模块 加压 工作站 利用 处理 半导体 方法 | ||
【主权项】:
1.一种模块加压工作站系统,其特征在于,包含:一第一加压负载端,该第一加压负载端和一工作站本体接合;一第二加压负载端,该第二加压负载端和该工作站本体接合;该工作站本体维持在一设定的压力水平,其中该工作站本体包含一内部材料处理系统,该内部材料处理系统配置以移动在该设定的压力水平的位于该第一负载端以及该第二负载端之间的该工作站本体内的一半导体工件;一第一模块工具,该第一模块工具和该第一加压负载端接合,其中该第一模块工具配置以处理该半导体工件;以及一第二模块工具,该第二模块工具和该第二加压负载端接合,其中该第二模块工具配置以检查由该第一模块工具处理的该半导体工件。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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