[发明专利]一种手性圆偏振光亚波长聚焦透镜在审
申请号: | 201810816574.4 | 申请日: | 2018-07-24 |
公开(公告)号: | CN108873124A | 公开(公告)日: | 2018-11-23 |
发明(设计)人: | 张柏富;胡昌宝;丁剑平 | 申请(专利权)人: | 南京理工大学;南京大学 |
主分类号: | G02B5/00 | 分类号: | G02B5/00 |
代理公司: | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人: | 陈鹏 |
地址: | 210094 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种手性圆偏振光亚波长聚焦透镜,透镜以金薄膜为基底,表面刻蚀两列沿阿基米德螺旋线排列的矩形纳米孔;阿基米德螺旋线以内区域,刻蚀若干同心圆排列的空气凹槽,其圆心与透镜中心重合。本发明由单一金属材料刻蚀结构来实现对圆偏振光的手性聚焦,这种透镜主要利用表面等离激元效应以及手性结构下对圆偏振光的相长干涉或相消干涉,不仅可以用于形成亚波长的光针形或光管形的焦场,还可以用于对圆偏振光的检测;通过合理设计透镜的纳米矩形孔的排列以及同心圆凹槽的位置,可以实现对不同圆偏振光的亚波长远场手性聚焦,这就为光捕获、亚波长成像、超分辨率成像、光场角动量检测等相关领域提供技术参考。 | ||
搜索关键词: | 圆偏振光 透镜 手性 阿基米德螺旋线 亚波长聚焦透镜 聚焦 表面等离激元 超分辨率成像 同心圆凹槽 同心圆排列 亚波长成像 表面刻蚀 技术参考 金属材料 刻蚀结构 空气凹槽 手性结构 透镜中心 相长干涉 相消干涉 圆心 光捕获 角动量 金薄膜 矩形孔 纳米孔 亚波长 检测 重合 场手 光场 光管 光针 基底 焦场 刻蚀 亚波 | ||
【主权项】:
1.一种手性圆偏振光亚波长聚焦透镜,其特征在于,所述透镜以金薄膜为基底,表面刻蚀两列沿阿基米德螺旋线排列的矩形纳米孔;阿基米德螺旋线以内区域,刻蚀若干同心圆排列的空气凹槽,其圆心与透镜中心重合。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京理工大学;南京大学,未经南京理工大学;南京大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810816574.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种复合型长变焦液体透镜
- 下一篇:遮光件、具有遮光结构的透镜组及激光雷达