[发明专利]感光元件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201810822629.2 申请日: 2018-07-24
公开(公告)号: CN108962929A 公开(公告)日: 2018-12-07
发明(设计)人: 张博超;陈瑞沛;黄国有;丘兆仟 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;祁建国
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种感光元件及其制造方法,其中感光元件的制造方法包括:连续沉积第二导电层、感光材料层以及第一顶电极材料层于基板上;形成第一图案化光致抗蚀剂层于第一顶电极材料层上;以第一图案化光致抗蚀剂层为掩模,图案化第一顶电极材料层,以形成第一顶电极;移除第一图案化光致抗蚀剂层;以第一顶电极为掩模,图案化感光材料层,以形成感光层;形成绝缘层于第一顶电极上,且绝缘层具有开口;以及形成第二顶电极于绝缘层上,第二顶电极透过开口而电性连接第一顶电极。
搜索关键词: 顶电极 绝缘层 图案化光致抗蚀剂层 顶电极材料层 感光元件 感光材料层 图案化 掩模 开口 制造 第二导电层 电性连接 连续沉积 感光层 基板 移除
【主权项】:
1.一种感光元件的制造方法,其特征在于,包括:连续沉积一第二导电层、一感光材料层以及一第一顶电极材料层于一基板上;形成一第一图案化光致抗蚀剂层于该第一顶电极材料层上;以该第一图案化光致抗蚀剂层为掩模,图案化该第一顶电极材料层,以形成一第一顶电极;移除该第一图案化光致抗蚀剂层;以该第一顶电极为掩模,图案化该感光材料层,以形成一感光层;形成一绝缘层于该第一顶电极上,且该绝缘层具有一开口;以及形成一第二顶电极于该绝缘层上,该第二顶电极透过该开口而电性连接该第一顶电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于友达光电股份有限公司,未经友达光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810822629.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top