[发明专利]感光元件及其制造方法在审
申请号: | 201810822629.2 | 申请日: | 2018-07-24 |
公开(公告)号: | CN108962929A | 公开(公告)日: | 2018-12-07 |
发明(设计)人: | 张博超;陈瑞沛;黄国有;丘兆仟 | 申请(专利权)人: | 友达光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 梁挥;祁建国 |
地址: | 中国台湾新竹科*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种感光元件及其制造方法,其中感光元件的制造方法包括:连续沉积第二导电层、感光材料层以及第一顶电极材料层于基板上;形成第一图案化光致抗蚀剂层于第一顶电极材料层上;以第一图案化光致抗蚀剂层为掩模,图案化第一顶电极材料层,以形成第一顶电极;移除第一图案化光致抗蚀剂层;以第一顶电极为掩模,图案化感光材料层,以形成感光层;形成绝缘层于第一顶电极上,且绝缘层具有开口;以及形成第二顶电极于绝缘层上,第二顶电极透过开口而电性连接第一顶电极。 | ||
搜索关键词: | 顶电极 绝缘层 图案化光致抗蚀剂层 顶电极材料层 感光元件 感光材料层 图案化 掩模 开口 制造 第二导电层 电性连接 连续沉积 感光层 基板 移除 | ||
【主权项】:
1.一种感光元件的制造方法,其特征在于,包括:连续沉积一第二导电层、一感光材料层以及一第一顶电极材料层于一基板上;形成一第一图案化光致抗蚀剂层于该第一顶电极材料层上;以该第一图案化光致抗蚀剂层为掩模,图案化该第一顶电极材料层,以形成一第一顶电极;移除该第一图案化光致抗蚀剂层;以该第一顶电极为掩模,图案化该感光材料层,以形成一感光层;形成一绝缘层于该第一顶电极上,且该绝缘层具有一开口;以及形成一第二顶电极于该绝缘层上,该第二顶电极透过该开口而电性连接该第一顶电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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