[发明专利]一种MPCVD制备掺杂氮磷石墨烯的方法在审
| 申请号： | 201810824857.3 | 申请日： | 2018-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN108910867A | 公开（公告）日： | 2018-11-30 |
| 发明（设计）人： | 陈木成;马肃霜 | 申请（专利权）人： | 恒力（厦门）石墨烯科技产业集团有限公司 |
| 主分类号： | C01B32/186 | 分类号： | C01B32/186 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 361003 福建省厦门市中国（福建）自由贸*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种MPCVD制备掺杂氮磷石墨烯的方法，在微波等离子体沉积装置中进行，包括步骤如下：S1：将于P2O5粉末放入罩子带有孔的石英坩埚中，然后置于离子体反应腔内；S2：在清洗烘干过的硅衬底上镀一层金属催化剂薄膜，然后置于沉积室中。本发明通过微波等离子体气相化学沉积，直接反应制备得到氮磷共掺杂石墨烯，摒弃了对环境和设备存在污染和腐蚀的气体，制备工艺更加绿色环保；与氧化还原法相比，本发明方法性价比高，产量高，可制备大片径氮磷共掺杂石墨烯，厚度易于控制，可以规模化生产，并且石墨烯中的N原子和P原子掺杂浓度可调，具有较高的科研与产业化应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 石墨烯 氮磷 制备 共掺杂 掺杂 金属催化剂薄膜 微波等离子体 产业化应用 规模化生产 微波等离子 氧化还原法 罩子 沉积装置 化学沉积 绿色环保 清洗烘干 石英坩埚 原子掺杂 直接反应 制备工艺 沉积室 反应腔 硅衬底 离子体 放入 可调 腐蚀 大片 污染 科研 | ||
【主权项】：
1.一种MPCVD制备掺杂氮磷石墨烯的方法，在微波等离子体沉积装置中进行，其特征在于，包括步骤如下：S1：将于P2O5粉末放入罩子带有孔的石英坩埚中，然后置于离子体反应腔内；S2：在清洗烘干过的硅衬底上镀一层金属催化剂薄膜，然后置于沉积室中，抽真空，向沉积室內通入N2气，N2流速在10cm3/min‑30cm3/min；S3：通入CH4，CH4流速在25cm3/min‑300cm3/min，控制反应沉积室内甲烷体积百分浓度处于1％‑5％，N2体积浓度在0.1‑0.5％之间；S4：激发微波调节微波发射器功率100‑1000w，将N2、CH4，激发成等离子体；调节压强为400Pa‑1300Pa；升温在400℃‑900℃，升温速率在1‑10℃/min，反应时间15min‑60min，冷却至室温，即可得到氮磷共掺杂石墨烯。
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