[发明专利]应用于压接型MOSFET的压装结构在审

专利信息
申请号: 201810829497.6 申请日: 2018-07-25
公开(公告)号: CN110767637A 公开(公告)日: 2020-02-07
发明(设计)人: 陈政宇;曾嵘;赵彪;余占清;刘佳鹏;周文鹏 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: H01L25/07 分类号: H01L25/07;H01L23/48
代理公司: 11594 北京知联天下知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 王冲;吴鑫
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种应用于压接型MOSFET的压装结构,包括第一铜块,弹性结构,压接型MOSFET,电路板和第二铜块。其中,多个压接型MOSFET能够形成并联阵列,排布成环形或矩阵型。所述压装结构的结构简单、紧凑,通流能力和散热能力增强,拓宽了适用范围。
搜索关键词: 压接 压装结构 铜块 电路板 并联阵列 弹性结构 散热能力 通流能力 矩阵型 排布 紧凑 应用
【主权项】:
1.一种压装结构,应用于压接型MOSFET,其特征在于:包括第一铜块,弹性结构,压接型MOSFET,电路板,第二铜块;/n其中,所述第一铜块底部设有凹槽,所述弹性结构与所述压接型MOSFET置于所述凹槽中;/n所述弹性结构的顶部与所述第一铜块电气连接;所述弹性结构的底部与所述压接型MOSFET的漏极顶部耦接;/n在没有外部压力的情况下,所述第一铜块与所述电路板不接触,所述第一铜块仅通过所述弹性结构与所述压接型MOSFET漏极电气连接;/n所述压接型MOSFET设置于所述电路板上面,并且所述压接型MOSFET底部源极和栅极电气连接所述电路板;/n所述电路板下面刚性连接第二铜块。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学,未经清华大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810829497.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top