[发明专利]锍盐、聚合物、抗蚀剂组合物和图案化方法有效
申请号: | 201810834820.9 | 申请日: | 2018-07-26 |
公开(公告)号: | CN109307985B | 公开(公告)日: | 2022-11-08 |
发明(设计)人: | 大桥正树;畠山润;阿达铁平 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039;G03F7/00 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 杜丽利 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明为锍盐、聚合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。涂布包含衍生自具有聚合性基团的特定结构的锍盐的重复单元的聚合物,以形成因为改进的LWR、CDU和分辨率而适于精确图案化的抗蚀剂膜。 | ||
搜索关键词: | 锍盐 聚合物 抗蚀剂 组合 图案 方法 | ||
【主权项】:
1.锍盐,其包含具有式(1a)的阴离子和具有式(1b)或(1c)的锍阳离子:
其中,R为含有至少一个碘原子的C1‑C20直链、支链或环状一价烃基,其可以含有不同于碘的杂原子,Rf1和Rf2各自独立地为氢、氟或三氟甲基,n为0至5的整数,和L1为单键或含有醚键、硫醚键、酯键、磺酸酯键、碳酸酯键或氨基甲酸酯键的二价基团,
其中,A为具有聚合性基团的有机基团,R1、R2和R3各自独立地为卤素、硝基、氰基或可以含有杂原子的C1‑C20直链、支链或环状一价烃基,当包括多个基团R1、R2或R3时,两个相邻的基团R1、R2或R3可以键合在一起以与它们所连接的碳原子形成环,X为单键或‑O‑、‑NH‑、‑S‑、‑SO‑、‑SO2‑、‑CO‑或‑CH2‑,p为0至4的整数,q和r各自独立地为0至5的整数,q’和r’各自独立地为0至4的整数。
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