[发明专利]一种适用于等离子体喷涂的喷砂工艺在审
申请号: | 201810840858.7 | 申请日: | 2018-07-27 |
公开(公告)号: | CN109055882A | 公开(公告)日: | 2018-12-21 |
发明(设计)人: | 黄艳芳;司奇峰;王慧;赵浩 | 申请(专利权)人: | 芜湖通潮精密机械股份有限公司 |
主分类号: | C23C4/02 | 分类号: | C23C4/02;C23C4/134;B24C1/10 |
代理公司: | 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 | 代理人: | 王冰冰 |
地址: | 241000 安徽省芜湖市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种适用于等离子体喷涂的喷砂工艺,包括如下步骤:步骤一、对工件基体清洗除杂及干燥;步骤二、对工件非喷涂面进行包敷遮蔽处理;步骤三、对固定好的工件基体的喷涂面喷砂,喷砂压力为0.2~0.4Mpa,喷砂高度为20~100cm。本发明通过喷砂工艺,增加工件基体表面的粗糙度,且提供一种清洁的结合界面,有助于提高后续涂层的质量,提高基体的强度、硬度,耐腐蚀性能、耐磨损性能、延长使用寿命。 | ||
搜索关键词: | 工件基体 喷砂工艺 等离子体喷涂 喷涂面 喷砂 延长使用寿命 耐腐蚀性能 耐磨损性能 结合界面 喷砂压力 清洗除杂 粗糙度 包敷 遮蔽 清洁 | ||
【主权项】:
1.一种适用于等离子体喷涂的喷砂工艺,其特征在于,包括如下步骤:步骤一、对工件基体清洗除杂及干燥;步骤二、对工件非喷涂面进行包敷遮蔽处理;步骤三、对固定好的工件基体的喷涂面喷砂,喷砂压力为0.1~0.4Mpa,喷砂高度为20~100cm。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
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