[发明专利]光掩模检查方法、光掩模制造方法及光掩模检查装置

摘要

光掩模检查方法、光掩模制造方法及光掩模检查装置，能够简单且直接地测量在光掩模的转印用图案中包含的相移部的相移量。光掩模检查方法测量在光掩模的转印用图案中包含的相移部的相位特性，包括：在具备投影光学系统的检查装置中设置光掩模的工序；光学像数据取得工序，通过将所设置的光掩模曝光且将相移部的光学像投影到摄像面上，从而取得光学像数据；运算工序，利用所取得的光学像数据而求出相移部所具备的相移量，在光学像数据取得工序中，使光掩模、投影光学系统及摄像面中的至少一部分在光轴方向上移动而取得多个聚焦状态的各个状态下的光学像数据，在运算工序中，利用所取得的多个聚焦状态的光学像数据而求出相移量。

主权项

1.一种光掩模检查方法，测量在光掩模的转印用图案中包含的相移部的相位特性，该光掩模检查方法包括：在具备投影光学系统的检查装置中设置所述光掩模的工序；光学像数据取得工序，将所设置的所述光掩模曝光，并通过所述投影光学系统将所述相移部的光学像投影到摄像面上，从而取得光学像数据；以及运算工序，利用所取得的所述光学像数据而求出所述相移部所具有的相移量，在所述光学像数据取得工序中，使所述光掩模、所述投影光学系统及所述摄像面当中的至少一部分在光轴方向上移动，而取得多个聚焦状态的各个状态下的所述光学像数据，在所述运算工序中，利用所取得的所述多个聚焦状态的所述光学像数据求出所述相移量。