[发明专利]一种三维吸气剂薄膜结构及其制备方法在审
| 申请号： | 201810843088.1 | 申请日： | 2018-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN110767611A | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 甘先锋;杨水长;孙俊杰;王宏臣;陈文礼 | 申请（专利权）人： | 烟台睿创微纳技术股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/26 | 分类号： | H01L23/26 |
| 代理公司： | 44202 广州三环专利商标代理有限公司 | 代理人： | 贾允;肖丁 |
| 地址： | 264000 山东*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于高真空电子器件领域，公开了一种三维吸气剂薄膜结构及其制造方法，包括衬底、凸出部，所述凸出部以阵列排布方式分布在所述衬底的表面；以及吸气剂薄膜，所述凸出部用于增大所述吸气剂薄膜的表面积。采用本发明的三维吸气剂薄膜结构及其制备方法，具有提高吸气剂薄膜单位占用衬底面积吸气性能的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 吸气剂 凸出部 衬底 薄膜 薄膜结构 三维 电子器件领域 吸气 阵列排布 高真空 制备 占用 制造 | ||
【主权项】：
1.一种三维吸气剂薄膜结构，其特征在于，包括衬底(1)、凸出部(3)，所述凸出部(3)以阵列排布方式分布在所述衬底(1)的表面；以及/n吸气剂薄膜(2)，所述凸出部(3)用于增大所述吸气剂薄膜(2)的表面积。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于烟台睿创微纳技术股份有限公司，未经烟台睿创微纳技术股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810843088.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种集成电路及其制造方法
- 下一篇：贴合结构与贴合方法
