[发明专利]一种框架结构有效
| 申请号： | 201810843689.2 | 申请日： | 2018-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN108611598B | 公开（公告）日： | 2021-01-22 |
| 发明（设计）人： | 李冬伟 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 郭润湘 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及表面处理技术领域，公开了一种框架结构，包括框架、制作条以及支撑件，框架的内边缘上形成有定位槽，制作条可拆卸地安装于定位槽，制作条上形成有沟槽，支撑件固定在沟槽内，支撑件形成支撑掩模版的支撑平面，在待蒸镀产品型号及设计发生变化时，只需要将制作条从框架的定位槽上拆除，并对框架进行简单的打磨处理，然后将变更后的制作条可拆卸地安装于定位槽内即可，支撑件固定在沟槽内，并形成支撑对应掩模版的支撑平面，因此，可以保证不同掩膜版的固定需求，当固定不同的掩膜版时，只需更换制作条，不需要舍弃现有的框架结构，因此上述框架结构能够用于固定多种掩膜版，通用性较好，提高框架的利用率，节约成本和制作时间。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 框架结构 | ||
【主权项】：
1.一种框架结构，其特征在于，包括框架、制作条以及支撑件，所述框架的内边缘上形成有定位槽，所述制作条可拆卸地安装于所述定位槽，所述制作条上形成有沟槽，所述支撑件固定在沟槽内，所述支撑件形成支撑掩模版的支撑平面。
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