[发明专利]表面波等离子体装置有效
| 申请号： | 201810844700.7 | 申请日： | 2018-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN110769585B | 公开（公告）日： | 2023-08-18 |
| 发明（设计）人： | 王桂滨;韦刚 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46 |
| 代理公司： | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人： | 施敬勃 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种表面波等离子体装置，包括谐振板，在谐振板的远离反应腔室的一个表面上形成有凹槽，该凹槽中可分离的填充有介质结构，用于调节反应腔室中的等离子体分布均匀性。本发明提供的表面波等离子体装置，其不仅可以提高调节等离子体分布均匀性的便捷性、灵活性，而且还可以避免腔室颗粒增加、谐振板下表面不平整的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 表面波 等离子体 装置 | ||
【主权项】：
1.一种表面波等离子体装置，其特征在于，包括谐振板，在所述谐振板的远离反应腔室的一个表面上形成有凹槽，所述凹槽中可分离的填充有介质结构，用于调节所述反应腔室中的等离子体分布均匀性。/n
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