[发明专利]蒸发源装置、成膜装置、成膜方法以及电子设备的制造方法有效
| 申请号： | 201810844797.1 | 申请日： | 2018-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN109722635B | 公开（公告）日： | 2021-11-16 |
| 发明（设计）人： | 藤中幸治;相泽雄树 | 申请（专利权）人： | 佳能特机株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 张宝荣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种蒸发源装置、成膜装置、成膜方法以及电子设备的制造方法。本发明的蒸发源装置包括：多个坩埚，所述多个坩埚包括第一坩埚和第二坩埚，收纳蒸镀材料；防附着板，所述防附着板覆盖所述第一坩埚，并在所述第二坩埚之上具有开口；以及可动式的蒸发源挡板，所述蒸发源挡板通过改变位置而将所述第二坩埚设为遮蔽状态或开放状态，所述蒸发源装置的特征在于，当所述蒸发源挡板将所述第二坩埚设为开放状态时，所述蒸发源挡板与所述防附着板以及被所述防附着板覆盖的第一坩埚重叠。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸发 装置 方法 以及 电子设备 制造 | ||
【主权项】：
1.一种蒸发源装置，包括：多个坩埚，所述多个坩埚包括第一坩埚和第二坩埚，收纳蒸镀材料；防附着板，所述防附着板覆盖所述第一坩埚，并在所述第二坩埚之上具有开口；以及可动式的蒸发源挡板，所述蒸发源挡板通过改变位置而将所述第二坩埚设为遮蔽状态或开放状态，所述蒸发源装置的特征在于，当所述蒸发源挡板将所述第二坩埚设为开放状态时，所述蒸发源挡板与所述防附着板以及被所述防附着板覆盖的第一坩埚重叠。
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