[发明专利]一种四维单源γ刀焦点跟踪定位系统有效

专利信息
申请号: 201810845195.8 申请日: 2018-07-27
公开(公告)号: CN109011211B 公开(公告)日: 2020-09-22
发明(设计)人: 王全锋;黄香菊 申请(专利权)人: 王全锋
主分类号: A61N5/10 分类号: A61N5/10
代理公司: 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 代理人: 王学鹏
地址: 457000 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 一种四维单源γ刀焦点跟踪定位系统,包括坐标系统、三维双数字X射线透视系统、位置跟踪系统和数据计算中心,坐标系统、三维双数字X射线透视系统分别与数据计算中心相连,坐标系统、三维双数字X射线透视系统、数据计算中心均与位置跟踪系统连接,位置跟踪系统包括位置传感器、位移焦点跟踪数学模型系统、传感器位移数据采集分析系统、中央控制器和放射治疗计划系统;本发明的定位方法,先建立位移焦点跟踪数学模型,利用位置传感器关联数据智能跟踪焦点,无延时误差,跟踪更精准、微米级,放射治疗过程中不使用跟踪X射线,避免了辐射危害和干扰激光定位,实用性、适用性、高效性和安全性更强,适用于其他的立体定向放射治疗系统。
搜索关键词: 一种 四维单源 焦点 跟踪 定位 系统
【主权项】:
1.一种四维单源γ刀焦点跟踪定位系统,包括坐标系统(1)、三维双数字X射线透视系统(2)、位置跟踪系统(4)和数据计算中心(3),所述坐标系统(1)、三维双数字X射线透视系统(2)分别与数据计算中心(3)相连,其特征在于:所述坐标系统(1)、三维双数字X射线透视系统(2)、数据计算中心(3)均与位置跟踪系统(4)连接,所述位置跟踪系统(4)包括位置传感器(401)、位移焦点跟踪数学模型系统(402)、传感器位移数据采集分析系统(403)、中央控制器(404)和放射治疗计划系统(405),所述位置传感器(401)、位移焦点跟踪数学模型系统(402)、传感器位移数据采集分析系统(403)、放射治疗计划系统(405)均与中央控制器(404)连接,位置传感器(401)、位移焦点跟踪数学模型系统(402)、传感器位移数据采集分析系统(403)均与放射治疗计划系统(405)连接。
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