[发明专利]一种微盘拉曼激光器及其制作方法有效
| 申请号： | 201810847942.1 | 申请日： | 2018-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN108923245B | 公开（公告）日： | 2021-04-20 |
| 发明（设计）人： | 姜校顺;李昊;程欣宇;顾佳新;肖敏 | 申请（专利权）人： | 南京大学 |
| 主分类号： | H01S5/02 | 分类号： | H01S5/02 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 210093 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种微盘拉曼激光器及其制作方法。其中，微盘拉曼激光器包括：在基板上涂布光刻胶；其中，所述基板包括半导体基底，所述半导体基底上形成有氧化物半导体层；将设置有圆形镂空图案的掩模版作为掩膜，对所述光刻胶进行光刻和显影，获取光刻胶圆盘；以所述光刻胶圆盘作为掩膜，对所述氧化物半导体层进行等离子体刻蚀，获取氧化物半导体微盘；对所述氧化物半导体微盘上的所述光刻胶圆盘进行清洗；以所述氧化物半导体微盘作为掩模，刻蚀所述半导体基底，形成支撑所述氧化物半导体微盘的支撑柱。本发明实施例提供的技术方案，可解决现有微腔拉曼激光器刻蚀精度不高，重复性差的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 微盘拉曼 激光器 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种微盘拉曼激光器的制作方法，其特征在于，包括：在基板上涂布光刻胶；其中，所述基板包括半导体基底，所述半导体基底上形成有氧化物半导体层；将设置有圆形镂空图案的掩模版作为掩膜，对所述光刻胶进行光刻和显影，获取光刻胶圆盘；以所述光刻胶圆盘作为掩膜，对所述氧化物半导体层进行等离子体刻蚀，获取氧化物半导体微盘；对所述氧化物半导体微盘上的所述光刻胶圆盘进行清洗；以所述氧化物半导体微盘作为掩模，刻蚀所述半导体基底，形成支撑所述氧化物半导体微盘的支撑柱。
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