[发明专利]提高光电传感阵列测量折射率过程中数据处理精度的方法

摘要

本发明公开了一种提高光电传感阵列测量折射率过程中数据处理精度的方法，属于测量与光学领域，其包括如下步骤，S1光电传感阵列器件探测得到光强数据，根据光强数据计算获得临界角对应的像素，S2取临界角对应的像素位置前后m个像素，一共为(2m+1)个像素，采集该(2m+1)个像素对应的反射率，以作为拟合数据，S3采用高斯拟合公式，对步骤S2获取的拟合数据进行高斯拟合，得到高斯拟合函数，S4：对步骤S3获得的高斯拟合函数求导，导函数为0即为高斯拟合峰值处，该峰值处对应为亚像素位置处。本发明方法在光电阵列器件测量折射率的自动化、快速的特点基础上，进一步地提高了折射率测量的精度。

主权项

1.一种提高光电传感阵列测量折射率过程中数据处理精度的方法，其特征在于，其包括如下步骤：S1：光电传感阵列器件探测得到光强数据，根据光强数据计算获得临界角对应的像素，S2：取临界角对应的像素位置前后m个像素，一共为(2m+1)个像素，采集该(2m+1)个像素对应的反射率，以作为拟合数据，S3：采用高斯拟合公式，对步骤S2获取的拟合数据进行高斯拟合，得到高斯拟合函数，采用的高斯拟合公式如下：其中，n是自然数，为高斯拟合峰值数量，Ai、Bi、Ci为拟合需要确定的待定系数，其中Bi对应每个高斯拟合的峰值，S4：对步骤S3获得的高斯拟合函数求导，导函数为0即为高斯拟合峰值处，该峰值处对应为亚像素位置处。