[发明专利]一种连续化去除核级电解锆中卤化物杂质装置

摘要

本发明提供了一种连续化去除核级电解锆中卤化物杂质装置，在1200℃高温及真空条件下，加热核级电解锆，其中残留的氟化钠、氟化钾、氯化钠、氯化钾等电解质受热熔化，逐步蒸发，形成电解质蒸汽。熔化的电解质在重力的作用下，经石英滤芯过滤，滴落至低温区坩埚内。气化的电解质，扩散至低温区，在水冷璧上冷凝成固体。经过25‑30时高温真空蒸馏处理，核级电解锆中的卤化物残留全部消除干净。然后充入高纯氩气，将蒸馏仓转移至水冷套中进行冷却降温，降低至室温后可获得高纯核级电解锆晶体。

主权项

1.一种连续化去除核级电解锆中卤化物杂质装置，其特征在于，所述装置包括：加热炉(1)、蒸馏仓(2)、蒸馏坩埚(3)、待净化的核级电解锆(4)、陶瓷滤芯(5)、蒸馏仓收集漏斗(6)、蒸馏仓插板阀(7)、冷却结晶仓插板阀(8)、冷却结晶仓漏斗(9)、冷凝坩埚(10)、冷凝卤化物(11)、结晶卤化物(12)、冷却结晶仓(13)、水冷仓(14)、进水口(15)、出水口(16)；在高温区与低温区过渡阶段设置两个真空插板阀，可形成两个独立的密闭仓体，上部为蒸馏仓、下部为冷却结晶仓。当完成高温真空蒸馏后，填充高纯氩气，关闭两个插板阀，将密闭的高温蒸馏仓体转移至水冷仓进行冷却。将装有待处理电解锆的蒸馏仓直接转移至高温炉内进行高温真空蒸馏。