[发明专利]一类含硼氮基团的吡啶并二唑衍生物及其制备方法与应用有效
| 申请号： | 201810858385.3 | 申请日： | 2018-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN110776524B | 公开（公告）日： | 2021-09-21 |
| 发明（设计）人： | 应磊;钟知鸣;彭沣;黄飞;曹镛 | 申请（专利权）人： | 华南理工大学 |
| 主分类号： | C07F5/02 | 分类号： | C07F5/02;C08G83/00;H01L51/46 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 何淑珍;江裕强 |
| 地址： | 510640 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一类含硼氮基团的吡啶并二唑衍生物及其制备方法与应用。所述的吡啶并二唑衍生物单元化学稳定性及化学修饰性强，可以方便地通过二唑中的杂原子调整带隙和能级；其吡啶单元的氮原子为sp2杂化，吸电较性好，并且可以与含有硼原子的基团形成配位键，有利窄带隙聚合物的实现；通过调整吡啶单元的朝向，还可以实现聚合物的规整异构，从而调节聚合物半导体的光学和电学特性。 | ||
| 搜索关键词： | 一类 含硼氮 基团 吡啶 衍生物 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一类含硼氮基团的吡啶并二唑衍生物，其特征在于，具有如下化学结构式：/n
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