[发明专利]一种自发光-反光路沿石及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810867424.6 申请日: 2018-08-02
公开(公告)号: CN108914800A 公开(公告)日: 2018-11-30
发明(设计)人: 韩玉平;韩欣洁 申请(专利权)人: 四川杰邦科技有限公司
主分类号: E01F9/541 分类号: E01F9/541;E01F9/547;C09D5/22;C09D1/00;C09D7/63;C09D7/61
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 刘奇
地址: 621000 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提供了一种自发光‑反光路沿石,包括上端面、斜肩、立面、基础掩埋部分和基台横端面,所述路沿石的上端面、斜肩和立面具有凹凸纹理结构;所述凹凸纹理结构的凹陷部分附着有自发光材料、或反光材料、或自发光‑反光混合材料。本发明提供的自发光‑反光路沿石具有凹凸纹理结构,且凹陷部分附着有自发光和/或反光材料,其中凹凸纹理结构可辅助反光材料对来自多个角度的光源进行反射,自发光材料在白天可吸收自然光,在夜间能够起到发光增亮的效果,可有效提升城市道路边缘光照亮度,改善交通通行安全。
搜索关键词: 自发光 凹凸纹理 路沿石 反光 反光材料 自发光材料 上端面 凹陷 立面 斜肩 附着 混合材料 自然光 横端面 可吸收 基台 增亮 制备 城市道路 反射 光源 发光 光照 掩埋 通行 交通 安全
【主权项】:
1.一种自发光‑反光路沿石,包括上端面、斜肩、立面、基础掩埋部分和基台横端面,其特征在于,所述路沿石的上端面、斜肩和立面具有凹凸纹理结构;所述凹凸纹理结构的凹陷部分表面附着有自发光材料和/或反光材料。
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