[发明专利]一种荧光和磁共振双模成像碳纳米点及其制备方法在审
| 申请号： | 201810869391.9 | 申请日： | 2018-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN110776909A | 公开（公告）日： | 2020-02-11 |
| 发明（设计）人： | 黄容琴;杜伊琳 | 申请（专利权）人： | 复旦大学 |
| 主分类号： | C09K11/65 | 分类号： | C09K11/65;B82Y20/00;B82Y40/00;A61K49/00;A61K49/06;A61P35/00 |
| 代理公司： | 31268 上海元一成知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 吴桂琴 |
| 地址： | 200433 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明属材料化学领域，涉及一种荧光和磁共振双模成像碳纳米点的制备方法。本发明采用简单的两步修饰碳纳米点策略，首先合成二乙三胺五乙酸环酸酐(简称cDTPAa)，并将其共价连接在具有荧光性质的碳纳米点表面，然后利用二乙三胺五乙酸(简称DTPA)和Gd | ||
| 搜索关键词： | 碳纳米 磁共振 荧光 二乙三胺五乙酸 修饰 制备 加权磁共振 双模态成像 材料化学 成像性质 共价连接 脑胶质瘤 配位作用 双模成像 荧光成像 荧光性质 环酸酐 造影 成像 合成 协同 诊断 治疗 成功 | ||
【主权项】：
1.一种荧光和磁共振双模成像碳纳米点，其特征在于，主要由碳元素、氮元素、氧元素和钆元素构成，其中钆元素的总含量占22.70％；通过采用两步修饰碳纳米点策略，将Gd-DTPA与碳纳米点共价连接，赋予该碳纳米点荧光和磁共振两种成像性质，制成所述荧光和磁共振双模成像碳纳米点。/n
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