[发明专利]曝光方法、曝光装置和制造物品的方法有效
| 申请号： | 201810874025.2 | 申请日： | 2018-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN109388034B | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 小泉僚;中村忠央 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 张劲松 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了曝光方法、曝光装置和制造物品的方法。本发明提供一种曝光方法，所述曝光方法用于重复地执行用于经由投影光学系统对基板进行曝光的曝光处理，所述方法包括：第一曝光处理，所述第一曝光处理用于测量所述投影光学系统的光学特性，并且在基于所述测量的结果来校正所述光学特性的同时对所述基板进行曝光；第二曝光处理，所述第二曝光处理用于在基于通过预测公式估计所述光学特性的结果来校正所述光学特性的同时对所述基板进行曝光，其中，重复地执行所述第一曝光处理，并且在其中判断所确定的所述预测公式的系数已收敛的所述第一曝光处理之后开始所述第二曝光处理。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 装置 制造 物品 | ||
【主权项】：
1.一种曝光方法，所述曝光方法用于重复地执行用于经由投影光学系统对基板进行曝光的曝光处理，所述方法包括：第一曝光处理，所述第一曝光处理用于测量所述投影光学系统的光学特性，并且在基于所述测量的结果来校正所述光学特性的同时对所述基板进行曝光；第二曝光处理，所述第二曝光处理用于在基于通过预测公式估计所述光学特性的结果来校正所述光学特性的同时对所述基板进行曝光，其中，所述第一曝光处理包括从直到目前为止测量所述光学特性的结果来确定所述预测公式的系数，以及判断所确定的所述预测公式的系数是否已收敛，并且其中，在所述曝光方法中，重复地执行所述第一曝光处理，并且在其中判断所确定的所述预测公式的系数已收敛的所述第一曝光处理之后开始所述第二曝光处理。
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