[发明专利]用于X光装置的设备在审
申请号: | 201810876656.8 | 申请日: | 2018-08-03 |
公开(公告)号: | CN109381204A | 公开(公告)日: | 2019-02-26 |
发明(设计)人: | T.魏德纳;U.齐默曼;S.法伊滕汉斯尔 | 申请(专利权)人: | 西门子保健有限责任公司 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00;A61B6/06 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 姬亚东;刘春元 |
地址: | 德国埃*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种具有用于均匀化由X光源发出的X光射束的过滤器单元的设备。借助以层结构形式构建的遮光板‑过滤器‑镜‑单元,在病人或对象上的X光窗在X光拍摄期间也利用光窗可视。 | ||
搜索关键词: | 过滤器 过滤器单元 拍摄期间 形式构建 层结构 均匀化 遮光板 光窗 可视 射束 | ||
【主权项】:
1.一种具有用于均匀化由X光源(RQ)发出的X光射束(RS)的过滤器单元(Fn)的设备,其特征在于,设有可定向的遮光板‑过滤器‑镜‑单元(BFSE),其中,所述遮光板‑过滤器‑镜‑单元为了限界X光窗(RF)而具有拥有至少一个留空(Al, ..., An)的基板(G)并且留空(Al, ..., An)具有至少一个过滤器单元(Fn),其中,具有光反射层和/或光反射表面(S)的过滤器层设置在所述遮光板‑过滤器‑镜‑单元(BFSE)的过滤器单元(Fn)上并且构成所述过滤器单元(Fn),其中,所述光反射层和/或所述光反射表面(S)在所述过滤器单元(Fn)上构造在所述基板(G)的面向光源(LQ)的一侧上。
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