[发明专利]光掩模的修正方法、光掩模的制造方法、光掩模和显示装置的制造方法

摘要

本发明涉及光掩模的修正方法、光掩模的制造方法、光掩模和显示装置的制造方法。[课题]本发明提供在稳定的条件下高效地对相移膜进行修正的方法及其相关技术。[解决手段]一种在透明基板上具备将遮光膜和半透光膜分别进行图案化而形成的、具有透光部、遮光部和宽度d1(μm)的半透光部的转印用图案的光掩模的修正方法，修正方法具有：确定在半透光部产生的缺陷的工序；和在所确定的缺陷的位置形成修正膜从而形成具有d2(μm)的宽度的修正半透光部的修正膜形成工序，该修正方法中，d13.0，半透光膜对曝光光中所含的代表波长具有透射率T1(％)、并且具有使代表波长的光的相位偏移大致180度的相移特性，修正膜对代表波长具有透射率T2(％)、并且具有使代表波长的光的相位偏移大致180度的相移特性，T2T1且d2d1、或者T2T1且d2d1。

主权项

1.一种光掩模的修正方法，其为在透明基板上具备将遮光膜和半透光膜分别进行图案化而形成的、具有透光部、遮光部和宽度d1μm的半透光部的转印用图案的光掩模的修正方法，该修正方法的特征在于，修正方法具有：具有确定在所述半透光部产生的缺陷的工序；和在所确定的所述缺陷的位置形成修正膜从而形成具有d2μm的宽度的修正半透光部的修正膜形成工序，该修正方法中，d1<3.0，所述半透光膜对曝光光中所含的代表波长具有透射率T1(％)、并且具有使所述代表波长的光的相位偏移大致180度的相移特性，所述修正膜对所述代表波长具有透射率T2(％)、并且具有使所述代表波长的光的相位偏移大致180度的相移特性，T2>T1且d2d1。