[发明专利]一种刻蚀液回收利用的装置有效
申请号: | 201810882352.2 | 申请日: | 2018-08-03 |
公开(公告)号: | CN109004066B | 公开(公告)日: | 2020-06-23 |
发明(设计)人: | 王丽婷;刘海涛;张会学 | 申请(专利权)人: | 中节能太阳能科技(镇江)有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 赵志远 |
地址: | 212000 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供一种刻蚀液回收利用的装置,属于刻蚀工艺槽中废液的二次利用技术领域。刻蚀刻蚀液回收利用的装置,包括刻蚀工艺槽、刻蚀液供应储存箱、HF供应储存箱、纯水供应储存箱和制绒工艺槽。刻蚀工艺槽与刻蚀液供应储存箱连通,刻蚀液供应储存箱、HF供应储存箱和纯水供应储存箱均与制绒工艺槽连通。通过此刻蚀液回收利用的装置的设置,能够将刻蚀工艺槽中的废液进行二次利用,用来进行制绒工艺的生产,避免酸溶液的浪费,也能够更加环保。 | ||
搜索关键词: | 一种 刻蚀 回收 利用 装置 | ||
【主权项】:
1.一种刻蚀液回收利用的装置,其特征在于,包括刻蚀工艺槽、刻蚀液供应储存箱、HF供应储存箱、纯水供应储存箱和制绒工艺槽;所述刻蚀工艺槽与所述刻蚀液供应储存箱连通,所述刻蚀液供应储存箱、所述HF供应储存箱和所述纯水供应储存箱均与所述制绒工艺槽连通。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的