[发明专利]黑着层及具有该黑着层的透明导电结构有效

专利信息
申请号: 201810882513.8 申请日: 2018-08-06
公开(公告)号: CN109273144B 公开(公告)日: 2020-04-07
发明(设计)人: 李宜桦;锺信光 申请(专利权)人: 鼎展电子股份有限公司
主分类号: H01B5/14 分类号: H01B5/14;H01B1/06;H01B1/02
代理公司: 广东腾锐律师事务所 44473 代理人: 莫锡斌
地址: 中国台湾桃园*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 现有技术中金属微线透明导电基板因为极易产生金属光泽反光现象而具有线可视与光刻制程良率低等重大缺陷。本发明主要提供一种黑着层,置于透明基板与金属电极层之间,使具有所述黑着层的透明导电结构具有线不可视与光刻制程良率高等优点。另一方面,所述黑着层也可以直接覆于所述金属电极层之上。值得说明的是,验证实验的数据证实所述黑着层的材料色彩坐标均趋近黑色。并且,实验数据亦同时证实,具有所述黑着层的透明导电基板显示出高平均吸光率、低平均透光率(~0%)与低平均反射率的优秀特性。
搜索关键词: 黑着层 具有 透明 导电 结构
【主权项】:
1.一种黑着层,与金属电极层相结合,其特征在于,包括:制造材料选自于CuaNibOyNx和CuaNibMcOyNx所组成的群组中的其中一种;其中,M可为:铁(Fe)、铬(Cr)、锰(Mn)、钨(W)、钼(Mo)、锌(Zn)、钛(Ti)、铝(Al)、铟(In)、锡(Sn)、上述两种金属组成的合金或上述两种以上金属组成的合金;另外,a、b、c、x与y符合以下的关系式:10at.%≤a≤90at.%;10at.%≤b≤90at.%;1at.%≤c≤30at.%;1at.%≤x≤50at.%以及0.1at.%≤y≤99at.%。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鼎展电子股份有限公司,未经鼎展电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810882513.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top