[发明专利]离子型含POSS嵌段共聚物复合质子交换膜及制备方法在审
| 申请号： | 201810882642.7 | 申请日： | 2018-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN109037742A | 公开（公告）日： | 2018-12-18 |
| 发明（设计）人： | 陈芳;蔡蓉;林锋;陈闯;马晓燕 | 申请（专利权）人： | 西北工业大学;西北工业大学深圳研究院 |
| 主分类号： | H01M8/1039 | 分类号： | H01M8/1039;H01M8/1044;H01M8/1069 |
| 代理公司： | 西北工业大学专利中心 61204 | 代理人： | 王鲜凯 |
| 地址： | 710072 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种离子型含POSS嵌段共聚物复合质子交换膜及制备方法，其特征在于：组份为70‑99wt％聚合物基体和1‑30wt％离子型含POSS嵌段共聚物；通过相分离法制孔—浸渍、多层刮涂或溶融共混等多种方式，将POSS嵌段共聚物作为功能涂层或共混相与多种商用质子交换膜基体进行复合，制备出多种具有不同微观结构的离子型含POSS嵌段共聚物复合质子交换膜。该方法有效的解决了商用质子交换膜在高温下容易溶胀而导致的尺寸不稳定性或低湿下质子传导率低的问题。具有制备方法普适性强，结构调控性好、操作方便、效率高等优势。 | ||
| 搜索关键词： | 嵌段共聚物 离子型 制备 复合质子交换膜 质子交换膜 共混 商用 浸渍 尺寸不稳定性 聚合物基体 质子传导率 功能涂层 结构调控 微观结构 普适性 相分离 低湿 多层 刮涂 溶融 溶胀 组份 复合 | ||
【主权项】：
1.一种离子型含POSS嵌段共聚物复合质子交换膜，其特征在于组份为70‑99wt％聚合物基体和1‑30wt％离子型含POSS嵌段共聚物；所述聚合物基体为磺化聚砜、全氟磺酸树脂或磺化聚醚醚酮；所述离子型含POSS嵌段共聚物为不同拓扑结构的含POSS嵌段共聚物中的一种，化学结构分别为POSS‑PMMA‑PS、POSS‑PMMA‑SPS、POSS‑(PMMA‑SPS)8或POSS‑(PMMA‑PS)8。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西北工业大学;西北工业大学深圳研究院，未经西北工业大学;西北工业大学深圳研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810882642.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
