[发明专利]一种光诱导浸润的微流控芯片制备方法及功能化方法

摘要

本发明涉及一种光诱导浸润的微流控芯片制备方法及功能化方法，利用光诱导亲疏水性的材料修饰芯片表面，通过紫外光曝光在微结构中产生亲疏水区域分界区域，浸润区域能够允许流体通过，而非浸润区域由于受到柱子间的拉普拉斯压力，不能够使得流体进入非浸润区域，实现了微流体通道。利用光掩膜版，在芯片内部实现不同设计的曝光，实现不同微流控流体芯片结构和功能，通过压力驱动的各种流体通道设计，以及电渗流驱动的流体通路设计，最终满足可擦写、在单一芯片上实现多功能的微流控芯片，降低了传统加工芯片需要的设计－制备－测试－再加工的生产周期和成本。能够实现所有微流控芯片能够实现的功能，包括分离，合成，混合、流动控制等等。

主权项

1.一种光诱导浸润的微流控芯片制备方法，其特征在于步骤如下：步骤1：在原材料上加工构成微柱阵列结构，构成微结构芯片；所述微柱阵列结构为多个同一微柱均匀分布构成阵列结构；所述微柱阵列芯片的孔隙率为20％～80％；所述相邻微阵列单元的间隙空间深宽比为：1:5，1:1，5:1；步骤2：裁剪与原材料相同大小的无结构平整芯片，在芯片上设有入口和出口构成开孔芯片；步骤3：在微结构芯片的微柱阵列结构的面上修饰光诱导浸润涂层，在开孔芯片的一面上修饰光诱导浸润涂层；所述光诱导浸润涂层采用无机或有机涂层；步骤4：将两块芯片的光诱导材料一侧相接触并封接为封闭的完整芯片；步骤5：将掩膜置于完整芯片与紫外光源之间，进行曝光，得到光诱导浸润的微流控芯片；曝光过程中：紫外光源波长为400纳米以下，曝光时间5秒至10分钟。