[发明专利]一种催化裂化装置的反馈控制方法

摘要

本发明提供了一种催化裂化装置的反馈控制方法，包括以下步骤：S1、预设分离器中反应温度的设定值Tc；S2、基于催化裂化装置中测量到的过程变量，构造被控变量C，并预设其设定值Cs；过程变量包括再生器温度Trg、提升管温度Tri；被控变量C＝aTrg+bTri，a、b为常数；S3、反馈控制器控制调节反应温度的设定值Tc，实现对再生器温度Trg和提升管温度Tri的调节，进而调节被控变量C，降低被控变量C与其设定值Cs之间的误差D，使误差D不大于0.1，误差本发明通过控制器控制调节反应温度的设定值Tc，使新的被控变量C维持在设定值Cs附近，实现了对反应温度的设定值Tc的自动调节，催化裂化装置运行更平稳，运行效率、产品收率、加工处理能力等较高。

主权项

1.一种催化裂化装置的反馈控制方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、在催化裂化装置中预设分离器中的反应温度的设定值Tc，所述的催化裂化装置包括用于控制分离器温度、旋风分离器温度的主控制器；S2、基于催化裂化装置中测量到的过程变量，构造被控变量C，并预设其设定值Cs；所述的过程变量包括再生器温度Trg、提升管温度Tri；所述的被控变量C＝aTrg+bTri，所述的a、b为常数；S3、在催化裂化装置中增加一个反馈控制器，利用反馈控制器控制调节所述的反应温度的设定值T_c，在反应温度的设定值T_c变化的过程中将通过主控制器改变第一控制开关的工作状态，实现对所述的再生器温度T_rg和提升管温度T_ri的调节，进而调节被控变量C，反馈控制器通过闭环调节将最终降低所述的被控变量C与其设定值C_s之间的误差D，使所述的误差D不大于0.1，所述的误差