[发明专利]一种可实现离轴反射镜高低点位置精确测量的系统及方法在审
申请号: | 201810886092.6 | 申请日: | 2018-08-06 |
公开(公告)号: | CN108955537A | 公开(公告)日: | 2018-12-07 |
发明(设计)人: | 宋兴;张学敏;杨建峰 | 申请(专利权)人: | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
主分类号: | G01B11/02 | 分类号: | G01B11/02 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人: | 陈广民 |
地址: | 710119 陕西省西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明属于光学检测领域,尤其涉及一种可实现离轴抛物面反射镜高低点精确标定的系统及方法。本发明解决了离轴反射镜在加工过程中以及装调过程中难以精确标定高低点位置的问题。本发明可精确标定离轴抛物面反射镜高低点位置的系统,包括平台、激光干涉仪、平面反射镜、第一经纬仪、第二经纬仪和第三经纬仪;激光干涉仪、平面反射镜、第一经纬仪、第二经纬仪和第三经纬仪均设置在平台上;第一经纬仪和第三经纬仪位于平台的两侧,第一经纬仪的光轴和第三经纬仪的光轴均与大地水平,且二者处于同一直线上;平面反射镜、第二经纬仪和待测的离轴抛物面反射镜均位于平台的中部,且均位于第一经纬仪和第二经纬仪连线的一侧。 | ||
搜索关键词: | 经纬仪 高低点 离轴抛物面反射镜 平面反射镜 标定 激光干涉仪 离轴反射镜 光轴 经纬 光学检测 同一直线 连线 装调 测量 | ||
【主权项】:
1.一种可实现离轴反射镜高低点位置精确测量的系统,其特征在于:包括平台(1)、激光干涉仪(2)、平面反射镜(3)、第一经纬仪(4)、第二经纬仪(5)和第三经纬仪(6);激光干涉仪(2)、平面反射镜(3)、第一经纬仪(4)、第二经纬仪(5)和第三经纬仪(6)均设置在平台(1)上;所述平台(1)水平放置;所述第一经纬仪(4)和第三经纬仪(6)位于平台(1)的两侧,第一经纬仪(4)的光轴和第三经纬仪(6)的光轴均与大地水平,且二者处于同一直线上;平面反射镜(3)、第二经纬仪(5)和待测的离轴抛物面反射镜(7)均位于平台(1)的中部,且均位于第一经纬仪(4)和第二经纬仪(5)连线的一侧,待测的离轴抛物面反射镜(7)位于平面反射镜的右侧,第二经纬仪(5)位于待测的离轴抛物面反射镜(7)之后;平面反射镜(3)的光轴与第一经纬仪(4)的光轴平行;第二经纬仪(5)的光轴与第一经纬仪(4)的光轴处于同一水平面;离轴抛物面反射镜(7)的中心到第一经纬仪(4)的光轴的距离等于离轴抛物面反射镜(7)离轴量,且离轴抛物面反射镜(7)的光轴与第二经纬仪(5)的光轴平行;激光干涉仪(2)位于平台(1)的中部,且位于第一经纬仪(4)和第二经纬仪(5)连线的另一侧;激光干涉仪(2)出射的平行光入射在离轴抛物面反射镜(7)的中心后,反射到平面反射镜(3)上,再经平面反射镜(3)反射后沿原路返回到激光干涉仪(2)。
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