[发明专利]磁控溅射设备、载板的传输控制方法及装置

摘要

本发明实施例提供了磁控溅射设备、载板的传输控制方法及装置。该磁控溅射设备包括：控制器，依次连通的缓冲室、分子泵室和靶室；缓冲室中设置有用以传输载板的第一传送带；分子泵室内靠近缓冲室一侧设置有第一位置传感器，第一位置传感器用于在感应到载板时向控制器发送第一感应信号；分子泵室内靠近靶室的一侧设置有第二位置传感器，第二位置传感器用于在感应到载板时向控制器发送第二感应信号；控制器分别与第一传送带、第一位置传感器和第二位置传感器连接，用于根据第一感应信号和第二感应信号来调整第一传送带的运行速度。通过调整第一传送带的运行速度，可以缩小靶室内传输的载板之间的距离，以减小溅射到真空腔室底部的靶材数量。

主权项

1.一种磁控溅射设备，其特征在于，所述磁控溅射设备包括：控制器，依次连通的缓冲室、分子泵室和靶室；所述缓冲室中设置有用以传输载板的第一传送带；所述分子泵室内靠近所述缓冲室一侧设置有第一位置传感器，所述第一位置传感器用于在感应到所述载板时向所述控制器发送第一感应信号；所述分子泵室内靠近所述靶室的一侧设置有第二位置传感器，所述第二位置传感器用于在感应到所述载板时向所述控制器发送第二感应信号；所述控制器分别与所述第一传送带、第一位置传感器和第二位置传感器连接，用于根据所述第一感应信号和所述第二感应信号来调整所述第一传送带的运行速度。