[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 201810886862.7 申请日: 2018-08-06
公开(公告)号: CN110246821A 公开(公告)日: 2019-09-17
发明(设计)人: 田上政由 申请(专利权)人: 东芝存储器株式会社
主分类号: H01L23/488 分类号: H01L23/488;H01L23/485
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 杨林勳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 实施方式提供一种能够将焊垫彼此适当地接合的半导体装置。根据一实施方式,半导体装置具备:第1芯片,具有第1插塞、及设置在所述第1插塞上的第1焊垫;及第2芯片,具有第2插塞、及设置在所述第2插塞下的第2焊垫。所述第2芯片具备:电极层,和所述第2插塞电连接;电荷蓄积层,在所述电极层的侧面介隔第1绝缘膜而设置;及半导体层,在所述电荷蓄积层的侧面介隔第2绝缘膜而设置。而且,所述第1焊垫与所述第2焊垫接合;所述第1及第2插塞是以在和所述基板的表面垂直的第1方向上,所述第1插塞和所述第2插塞至少一部分不相互重叠的方式配置。
搜索关键词: 插塞 焊垫 半导体装置 电荷蓄积层 接合 芯片 电极层 绝缘膜 半导体层 表面垂直 方式配置 侧面 电连接 基板
【主权项】:
1.一种半导体装置,其特征在于具备:第1芯片,具有第1插塞、及设置在所述第1插塞上的第1焊垫;及第2芯片,具有第2插塞、及设置在所述第2插塞下的第2焊垫;所述第2芯片具备:电极层,和所述第2插塞电连接;电荷蓄积层,在所述电极层的侧面介隔第1绝缘膜而设置;以及半导体层,在所述电荷蓄积层的侧面介隔第2绝缘膜而设置;且所述第1焊垫与所述第2焊垫接合;所述第1及第2插塞是以在和所述基板的表面垂直的第1方向上,所述第1插塞和所述第2插塞至少一部分不相互重叠的方式配置。
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