[发明专利]垂直磁各向异性磁记录薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 201810888540.6 | 申请日： | 2018-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN109097737B | 公开（公告）日： | 2020-05-15 |
| 发明（设计）人： | 吴华疆 | 申请（专利权）人： | 泉州凯华新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/16;C23C14/18;C23C14/35;G11B5/851 |
| 代理公司： | 昆明合众智信知识产权事务所 53113 | 代理人： | 张玺 |
| 地址： | 362300 福建省泉*** | 国省代码： | 福建;35 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种垂直磁各向异性磁记录薄膜的制备方法，包括如下步骤：准备玻璃基片；在玻璃基片表面镀敷MnO层；在MnO层上镀敷第一MnGa层；在第一MnGa层上镀敷第一Pt层；在第一Pt层上镀敷第一FePt层；在第一FePt层上镀敷第二MnGa层；在第二MnGa层上镀敷FeCo层；在FeCo层上镀敷第二FePt层；以及在第二FePt层上镀敷Cr层。本发明的磁记录薄膜对于制备工艺要求不严格。同时，本发明的磁记录薄膜的矫顽力适当的大，使得本发明的材料能够切实抵抗外界干扰。此外，本发明的剩磁较大，矩形比较高，使得本发明的磁记录薄膜有望成为一种性能优良的磁记录材料。 | ||
| 搜索关键词： | 垂直 各向异性 记录 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种垂直磁各向异性磁记录薄膜的制备方法，其特征在于：所述垂直磁各向异性磁记录薄膜的制备方法包括如下步骤：准备表面清洁的玻璃基片；利用具有第一工艺参数的交流磁控溅射方法，在所述玻璃基片表面镀敷MnO层，其中，所述MnO层的厚度为10‑15nm；利用具有第二工艺参数的交流磁控溅射方法，在所述MnO层上镀敷第一MnGa层，其中，所述第一MnGa层的厚度为15‑25nm；利用具有第三工艺参数的交流磁控溅射方法，在所述第一MnGa层上镀敷第一Pt层，其中，所述第一Pt层的厚度为10‑15nm；利用具有第四工艺参数的交流磁控溅射方法，在所述第一Pt层上镀敷第一FePt层，其中，所述第一FePt层的厚度为20‑30nm；利用具有第五工艺参数的交流磁控溅射方法，在所述第一FePt层上镀敷第二MnGa层，其中，所述第二MnGa层的厚度为25‑45nm；利用具有第六工艺参数的交流磁控溅射方法，在所述第二MnGa层上镀敷FeCo层，其中，所述FeCo层厚度为10‑20nm；利用具有第七工艺参数的交流磁控溅射方法，在所述FeCo层上镀敷第二FePt层，其中，所述第二FePt层厚度为15‑25nm；以及利用具有第八工艺参数的交流磁控溅射方法，在所述第二FePt层上镀敷Cr层，其中，所述Cr层厚度为10‑20nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于泉州凯华新材料科技有限公司，未经泉州凯华新材料科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810888540.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：表面带有镀层的贵金属制品及其制备方法
- 下一篇：一种陶瓷镜子及制作方法
- 同类专利
- 专利分类
