[发明专利]同位素测量装置在审

专利信息
申请号: 201810891036.1 申请日: 2018-08-07
公开(公告)号: CN109387482A 公开(公告)日: 2019-02-26
发明(设计)人: J-B·西尔旺 申请(专利权)人: 原子能和能源替代品委员会
主分类号: G01N21/25 分类号: G01N21/25;G01N21/73
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟;王锦阳
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 发明涉及一种同位素测量装置和测量方法,其测量包括多种元素的材料中存在的元素的同位素比率,所述方法包括以下步骤:‑施加步骤,其向材料施加至少一个激光光束从而产生等离子体,所述等离子体能够发出光谱,所述光谱包括由材料的元素发出的多个谱线;‑测量步骤,其能够测量由所关注的元素发射的至少一个所关注的谱线的轮廓,所述测量步骤包括通过光谱仪对由等离子体发射的光谱实施至少一次分析;‑处理步骤,其能够在所关注的谱线的轮廓中标记出对应于平衡点的最佳波长;以及‑确定步骤,其根据所标记出的最佳波长而确定同位素比率。
搜索关键词: 谱线 光谱 等离子体 同位素比率 同位素测量 测量步骤 测量 波长 等离子体发射 光谱仪 材料施加 激光光束 一次分析 平衡点 施加 发射
【主权项】:
1.一种测量方法,其测量在包括多种元素的材料中存在的所关注的元素的同位素比率,所述测量方法包括以下步骤:‑施加步骤(100),其向材料施加至少一个激光光束(3)从而产生等离子体(5),所述等离子体能够发射光谱(11),所述光谱(11)包括由材料的元素发射的多个谱线;以及‑测量步骤(200),其在施用步骤(100)后相继实施,并且能够测量由所关注的元素发射的至少一个所关注的谱线(21)的轮廓,所述测量步骤包括通过光谱仪(8)对由等离子体(5)发射的光谱(11)实施至少一次分析;确立所述测量方法的特征在于,其进一步包括:‑处理步骤(300),其在测量步骤(200)后相继实施,并且能够根据所关注的谱线(21)的所测量的轮廓而确立最佳波长(λ1,2),当所述轮廓具有双钟形的自吸收轮廓时,所述最佳波长对应于稳定平衡点(Pst),所述稳定平衡点对应于双钟之间的凹陷;或者,当轮廓为单钟形时,所述最佳波长对应于不稳定平衡点(Pinst),所述不稳定平衡点对应于钟形轮廓的顶点;以及‑确定步骤(400),其在处理步骤(300)后相继实施,并且能够根据所标记出的最佳波长(λ1,2)而确定同位素比率(Iso1/Iso2),所述确定步骤包括与给定元素的同位素比率(Iso1/Iso2)和最佳波长(λ1,2)之间的相关性函数相比较的步骤(410),或者包括实施多变量方法的步骤(420)。
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