[发明专利]光刻机微反射镜阵列角位置监测装置及使用方法在审
| 申请号： | 201810895406.9 | 申请日： | 2018-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN109029295A | 公开（公告）日： | 2018-12-18 |
| 发明（设计）人： | 马晓喆;张方;曾宗顺;朱思羽;曾爱军;黄惠杰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01B11/26 | 分类号： | G01B11/26 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种光刻机微反射镜阵列监测装置由光源单元、反射镜单元、微反射镜阵列固定单元、角位置转换单元、位置传感器单元组成。光源单元的出射光入射到微反射镜阵列上，经该微反射镜阵列反射后，依次入射到角位置转换单元和位置传感器单元，位置传感器单元位于角位置转换单元的后焦面或像面上。本发明的主光路与光刻机的工作光路不在同一个方向，不干扰曝光系统的正常运行，实时监测微反射镜阵列的角位置信息，并反馈给上位机，对微反射阵列的角位置分布实现实时闭环控制。 | ||
| 搜索关键词： | 角位置 微反射镜阵列 位置传感器单元 转换单元 反射镜阵列 光源单元 监测装置 光刻 入射 实时闭环控制 反射镜单元 角位置信息 反射阵列 工作光路 固定单元 曝光系统 实时监测 出射光 光刻机 后焦面 上位机 主光路 反射 反馈 | ||
【主权项】：
1.一种光刻机微反射镜阵列监测装置，其特征在于：包括光源单元(1)、供微反射镜阵列(6)放置的固定单元(2)、角位置转换单元(3)、位置传感器单元(4)和上位机(7)，所述的光源单元(1)的出射光入射到所述的微反射镜阵列(6)上，经该微反射镜阵列(6)反射后，依次入射到所述的角位置转换单元(3)和位置传感器单元(4)，所述位置传感器单元(4)位于所述角位置转换单元(3)的后焦面或像面上。
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