[发明专利]光刻机微反射镜阵列角位置监测装置及使用方法在审

专利信息
申请号: 201810895406.9 申请日: 2018-08-08
公开(公告)号: CN109029295A 公开(公告)日: 2018-12-18
发明(设计)人: 马晓喆;张方;曾宗顺;朱思羽;曾爱军;黄惠杰 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G01B11/26 分类号: G01B11/26
代理公司: 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 代理人: 张宁展
地址: 201800 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种光刻机微反射镜阵列监测装置由光源单元、反射镜单元、微反射镜阵列固定单元、角位置转换单元、位置传感器单元组成。光源单元的出射光入射到微反射镜阵列上,经该微反射镜阵列反射后,依次入射到角位置转换单元和位置传感器单元,位置传感器单元位于角位置转换单元的后焦面或像面上。本发明的主光路与光刻机的工作光路不在同一个方向,不干扰曝光系统的正常运行,实时监测微反射镜阵列的角位置信息,并反馈给上位机,对微反射阵列的角位置分布实现实时闭环控制。
搜索关键词: 角位置 微反射镜阵列 位置传感器单元 转换单元 反射镜阵列 光源单元 监测装置 光刻 入射 实时闭环控制 反射镜单元 角位置信息 反射阵列 工作光路 固定单元 曝光系统 实时监测 出射光 光刻机 后焦面 上位机 主光路 反射 反馈
【主权项】:
1.一种光刻机微反射镜阵列监测装置,其特征在于:包括光源单元(1)、供微反射镜阵列(6)放置的固定单元(2)、角位置转换单元(3)、位置传感器单元(4)和上位机(7),所述的光源单元(1)的出射光入射到所述的微反射镜阵列(6)上,经该微反射镜阵列(6)反射后,依次入射到所述的角位置转换单元(3)和位置传感器单元(4),所述位置传感器单元(4)位于所述角位置转换单元(3)的后焦面或像面上。
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