[发明专利]靶材清洁组件及靶材清洁方法、成膜设备有效
| 申请号： | 201810896123.6 | 申请日： | 2018-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN109023289B | 公开（公告）日： | 2020-07-31 |
| 发明（设计）人： | 谢锐 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请公开一种靶材清洁组件及靶材清洁方法、成膜设备。所述靶材清洁组件的气体导向机构用于提供朝向靶材的气流，所述气流的流通方向指向靶材的缝隙且所述气流的吹扫区域覆盖靶材，并通过所述气流的流通将落于靶材缝隙中的颗粒去除。基于此，本申请能够有利于改善对靶材缝隙中颗粒的清洁效果，从而确保成膜品质。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 组件 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种靶材清洁组件，其特征在于，所述靶材清洁组件包括气体导向机构，所述气体导向机构用于提供朝向靶材的气流，所述气流的流通方向指向所述靶材的缝隙且所述气流的吹扫区域覆盖所述靶材，并通过所述气流的流通将落于所述靶材缝隙中的颗粒去除。
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