[发明专利]三维结构的半导体存储器装置在审

专利信息
申请号: 201810907399.X 申请日: 2018-08-10
公开(公告)号: CN110098193A 公开(公告)日: 2019-08-06
发明(设计)人: 吴星来;金东赫;丁寿男 申请(专利权)人: 爱思开海力士有限公司
主分类号: H01L27/1157 分类号: H01L27/1157;H01L27/11578
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 刘久亮
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 三维结构的半导体存储器装置。一种半导体存储器装置包括:存储器单元阵列,该存储器单元阵列设置在基板上;多条位线,所述多条位线设置在所述存储器单元阵列上,每条位线沿着与所述基板的顶表面平行的第一方向延伸并且被划分成第一位线段和第二位线段;以及多个源极线焊盘,所述多个源极线焊盘在所述位线的所述第一位线段和所述位线的所述第二位线段之间与所述位线设置在同一层。
搜索关键词: 位线 线段 半导体存储器装置 存储器单元阵列 三维结构 源极线 焊盘 基板 方向延伸 顶表面 同一层 平行
【主权项】:
1.一种半导体存储器装置,该半导体存储器装置包括:存储器单元阵列,该存储器单元阵列设置在基板上;多条位线,所述多条位线设置在所述存储器单元阵列上,每条位线沿着与所述基板的顶表面平行的第一方向延伸并且被划分成第一位线段和第二位线段;以及多个源极线焊盘,所述多个源极线焊盘在所述位线的所述第一位线段和所述位线的所述第二位线段之间与所述位线设置在同一层。
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