[发明专利]一种用于抗反射有机硬掩模的组合物在审
| 申请号： | 201810933107.X | 申请日： | 2018-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN109188866A | 公开（公告）日： | 2019-01-11 |
| 发明（设计）人： | 赵宰亨;崔敦洙 | 申请（专利权）人： | 韩国高一智株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09 |
| 代理公司： | 江苏楼沈律师事务所 32254 | 代理人： | 吕欣 |
| 地址： | 韩国忠清北道州忠*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： |
一种用于抗反射有机硬掩模的组合物，其特征在于：组合物包括含芳环的聚合物，该聚合物如式1所示： |
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| 搜索关键词： | 聚合物 抗反射 硬掩模 吸收率 背面层 反射率 折射率 最小化 芳环 胶和 | ||
【主权项】：
1.一种用于抗反射有机硬掩模的组合物，其特征在于：组合物包括含芳环的聚合物，该聚合物如式1所示：![]()
其中，Ar1为氢、氘、卤素基、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、取代或未取代C1～C30的烷基、取代或未取代C2～C30的链烯基、取代或未取代C2～C30的炔基、取代或未取代C1～C10的烷氧基、取代或未取代C3～C10的环烷基、取代或未取代C2～C10的杂环烷基、取代或未取代C6～C30的芳基、取代或未取代C2～C30的杂芳基、取代或未取代C6～C30的芳氧基、取代或未取代C6～C30的芳硫基；或它们的任意组合；X为单键、取代或未取代的C1～C20的亚烷基、取代或未取代的C6～C30的亚芳基或它们的任意组合；Y为具有至少一个羟基被取代的C1～C20的亚烷基、具有至少一个羟基被取代的C6～C30的亚芳基、具有至少一个羟基被取代的C2～C30的杂芳基或它们的任意组合；Z1～Z3的取值范围分别为Z1/(Z1+Z2+Z3)＝0.05～0.45,Z2/(Z1+Z2+Z3)＝0.5,Z3/(Z1+Z2+Z3)＝0.05～0.45。
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