[发明专利]半导体器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201810937666.8 申请日: 2018-08-17
公开(公告)号: CN110060935B 公开(公告)日: 2023-08-18
发明(设计)人: 蔡柏豪;庄博尧;郑心圃;翁得期 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60;H01L23/485
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的实施例提供了半导体器件和制造方法,从而将中介片和第一半导体器件放置在载体衬底上并且被密封。中介片包括第一部分和远离第一部分延伸的导电柱。位于密封剂的第一侧上的再分布层将导电柱电连接至第一半导体器件。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种制造半导体器件的方法,所述方法包括:将粘合层放置在载体上方;将第一半导体器件放置在所述载体上,所述第一半导体器件具有第一厚度;将第一衬底放置在所述载体上,所述第一衬底具有小于所述第一厚度的第二厚度,其中,导电柱与所述第一衬底物理接触;以及将密封剂与所述第一衬底、所述导电柱和所述第一半导体器件的每个均物理接触。
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