[发明专利]半导体器件及其制造方法有效
申请号: | 201810937666.8 | 申请日: | 2018-08-17 |
公开(公告)号: | CN110060935B | 公开(公告)日: | 2023-08-18 |
发明(设计)人: | 蔡柏豪;庄博尧;郑心圃;翁得期 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L23/485 |
代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;李伟 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的实施例提供了半导体器件和制造方法,从而将中介片和第一半导体器件放置在载体衬底上并且被密封。中介片包括第一部分和远离第一部分延伸的导电柱。位于密封剂的第一侧上的再分布层将导电柱电连接至第一半导体器件。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种制造半导体器件的方法,所述方法包括:将粘合层放置在载体上方;将第一半导体器件放置在所述载体上,所述第一半导体器件具有第一厚度;将第一衬底放置在所述载体上,所述第一衬底具有小于所述第一厚度的第二厚度,其中,导电柱与所述第一衬底物理接触;以及将密封剂与所述第一衬底、所述导电柱和所述第一半导体器件的每个均物理接触。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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