[发明专利]像素界定层及其制备原料和制备方法、显示基板有效
申请号: | 201810943500.7 | 申请日: | 2018-08-17 |
公开(公告)号: | CN109103221B | 公开(公告)日: | 2020-08-28 |
发明(设计)人: | 李伟;夏晶晶;周斌;王东方;赵策;胡迎宾;宋威 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;G02F1/13;G02F1/1362 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 刘小鹤 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种像素界定层及其制备原料和制备方法、显示基板,涉及显示技术领域。该像素界定层的制备原料包括以下质量百分比的组分:5%‑30%的疏液性成膜聚合物、0.5%‑1%的亲液性磁性纳米颗粒、0.5%‑2%的光引发剂、0.1%‑1%的反应单体、0.1%‑1%的添加剂以及余量的溶剂。通过以上配比组成的各组分的协同作用,能够形成自顶部至底部呈现疏液性至亲液性梯度变化的像素界定层,能够有效避免像素原料溶液在像素区域顶部铺展而污染相邻像素,还可使像素原料溶液在像素区域底部均匀铺展开,以形成厚度均匀的像素层。在制备过程中,亲液性磁性纳米颗粒可通过外部磁场诱导至界定层本体的下部,以赋予界定层本体下部亲液特性,有效简化了制备工艺。 | ||
搜索关键词: | 像素 界定 及其 制备 原料 方法 显示 | ||
【主权项】:
1.一种像素界定层的制备原料,其特征在于,所述制备原料包括以下质量百分比的组分:5%‑30%的疏液性成膜聚合物、0.5%‑1%的亲液性磁性纳米颗粒、0.5%‑2%的光引发剂、0.1%‑1%的反应单体、0.1%‑1%的添加剂以及余量的溶剂。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的