[发明专利]一种噻苯咪唑分子印迹电化学传感器的制备及应用方法在审
| 申请号： | 201810945250.0 | 申请日： | 2018-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN109001280A | 公开（公告）日： | 2018-12-14 |
| 发明（设计）人： | 马晓国;李景;张梦圆 | 申请（专利权）人： | 广东工业大学 |
| 主分类号： | G01N27/327 | 分类号： | G01N27/327 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 510090 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公布了一种噻苯咪唑分子印迹电化学传感器的制备及应用方法，包括以下步骤：首先在抛光电极上修饰氧化石墨烯得到氧化石墨烯修饰电极，然后将氧化石墨烯修饰电极在氯化钠溶液中进行电还原得到还原氧化石墨烯修饰电极。接着，在还原氧化石墨烯修饰电极表面原位电聚合分子印迹聚合物，形成一层分子印迹膜。分子印迹膜以邻苯二胺和间二苯酚为功能单体，噻苯咪唑为模板分子。去除噻苯咪唑模板分子后，得到基于还原氧化石墨烯的噻苯咪唑分子印迹电化学传感器。将该传感器与差分脉冲伏安法相结合，可对痕量噻苯咪唑进行检测。灵敏度高、选择性好，在食品质量安全检测和环境监测领域具有应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 噻苯咪唑 还原氧化石墨烯 电化学传感器 氧化石墨烯 分子印迹 修饰电极 分子印迹膜 模板分子 制备 差分脉冲伏安法 分子印迹聚合物 应用 环境监测领域 修饰电极表面 质量安全检测 氯化钠溶液 功能单体 邻苯二胺 抛光电极 灵敏度 传感器 电还原 电聚合 二苯酚 痕量 去除 修饰 检测 | ||
【主权项】：
1.一种噻苯咪唑分子印迹电化学传感器的制备方法，其特征在于包括以下步骤：(1)在抛光电极上修饰氧化石墨烯得到氧化石墨烯修饰电极；(2)将氧化石墨烯修饰电极在氯化钠溶液中进行电还原得到还原氧化石墨烯修饰电极；(3)在还原氧化石墨烯修饰电极表面原位电聚合分子印迹聚合物，形成一层分子印迹膜。分子印迹膜以邻苯二胺和间二苯酚为功能单体，噻苯咪唑为模板分子；(4)去除噻苯咪唑模板分子，得到基于还原氧化石墨烯的噻苯咪唑分子印迹电化学传感器。
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