[发明专利]相位调节结构及其制作方法、驱动方法、全息显示装置有效
| 申请号： | 201810954010.7 | 申请日： | 2018-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN109116551B | 公开（公告）日： | 2021-03-19 |
| 发明（设计）人： | 邱鑫茂;周敏;王进;李宗祥;廖加敏;吴振钿;刘祖文 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;福州京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B26/06 | 分类号： | G02B26/06;G03H1/22 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;刘伟 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种相位调节结构及其制作方法、驱动方法、全息显示装置，涉及显示技术领域，为解决现有的动态全息显示技术在对相位进行调节时无法实现实时的动态调制的问题。所述相位调节结构，包括：相对设置的第一基板和第二基板；设置在所述第一基板和所述第二基板之间的多个相位调节腔室，所述相位调节腔室中设置有具有第一折射率的液滴和具有第二折射率的填充介质；设置在所述第一基板或所述第二基板上的遮挡部，用于限定出与所述多个相位调节腔室一一对应的出光口；设置在所述第一基板和所述第二基板之间的驱动单元，所述驱动单元能够调节每个所述相位调节腔室内的液滴的形状。本发明提供的相位调节结构用于对光线的相位进行调节。 | ||
| 搜索关键词： | 相位 调节 结构 及其 制作方法 驱动 方法 全息 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种相位调节结构，其特征在于，包括：相对设置的第一基板和第二基板；设置在所述第一基板和所述第二基板之间的多个相位调节腔室，所述相位调节腔室中设置有具有第一折射率的液滴和具有第二折射率的填充介质，所述第一折射率与所述第二折射率不同；设置在所述第一基板或所述第二基板上的遮挡部，用于限定出与所述多个相位调节腔室一一对应的出光口；设置在所述第一基板和所述第二基板之间的驱动单元，所述驱动单元能够调节每个所述相位调节腔室内的液滴的形状。
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