[发明专利]增强近红外量子效率的钳位型光电二极管及其制备方法有效
申请号: | 201810958576.7 | 申请日: | 2018-08-22 |
公开(公告)号: | CN109346553B | 公开(公告)日: | 2020-07-31 |
发明(设计)人: | 雷述宇 | 申请(专利权)人: | 宁波飞芯电子科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/103;H01L31/0352 |
代理公司: | 西安恒泰知识产权代理事务所 61216 | 代理人: | 黄小梧 |
地址: | 315500 浙江省宁*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明提供了一种增强近红外量子效率的钳位型光电二极管及其制备方法,包括:步骤1,在P型外延层围绕有源区边缘制备浅槽隔离区;步骤2,向P型外延层中分四次注入P型材料形成P阱隔离区;步骤3,退火;步骤4,在P型外延层的上表面形成多晶硅栅,并对多晶硅栅进行刻蚀,得到传输栅;步骤5,在P型外延层中分两次注入N型材料形成N型掺杂区;步骤6,在传输栅侧壁制备侧墙;步骤7,在N型掺杂区中制备钳位层;步骤8,在P阱隔离区上部注入N型材料形成悬浮扩散节点;步骤9,第二次退火处理。本发明提高量子效率,防止光电二极管的光生点在泄漏至悬浮扩散节点中。 | ||
搜索关键词: | 增强 红外 量子 效率 钳位型 光电二极管 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种增强近红外量子效率的钳位型光电二极管的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1,在P型外延层(2)围绕有源区边缘制备浅槽隔离区(7);步骤2,向P型外延层(2)中分四次注入P型材料形成P阱隔离区(3);步骤3,第一次退火处理;步骤4,在P型外延层(2)的上表面形成多晶硅栅,并对多晶硅栅进行刻蚀,得到传输栅(5);步骤5,在P型外延层(2)中分两次注入N型材料形成N型掺杂区(8);步骤6,在传输栅侧壁制备侧墙(9);步骤7,在N型掺杂区(8)中制备钳位层(6);步骤8,在P阱隔离区(3)上部注入N型材料形成悬浮扩散节点(4);步骤9,第二次退火处理。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的