[发明专利]一种报废光刻掩膜版的回收处理方法

摘要

本发明公开了一种报废光刻掩膜版的回收处理方法，包括：将报废光刻掩膜版表层的铬金属层用酸性腐蚀液腐蚀掉，得到膜版基底；用去离子水冲洗膜版基底表面；对膜版基底的双面表层进行衬底级的CMP化学抛光；将抛光后检验合格的膜版基底做镀铬前预清洗，先用酸洗，再用去离子水冲洗，然后用碱洗，再用去离子水冲洗，酸碱清洗重复多次；在膜版基底表面镀一定厚度的铬层，制作新的光刻掩膜版。通过对报废膜版基底的优化处理，从而使报废的膜版得到再次利用，不仅解决了行业资源的浪费，而且还变相的降低了生产成本。可以大大提高光刻版的反复利用次数，工艺简单，适合大规模批量生产。

主权项

1.一种报废光刻掩膜版的回收处理方法，其特征在于，包括以下步骤：S01：将报废光刻掩膜版表层的铬金属层用酸性腐蚀液腐蚀掉，得到膜版基底；S02：用去离子水冲洗膜版基底表面；S03：对膜版基底的双面表层进行衬底级的CMP化学抛光；S04：将抛光后检验合格的膜版基底做镀铬前预清洗，先用酸洗，再用去离子水冲洗，然后用碱洗，再用去离子水冲洗，酸碱清洗重复多次；S05：在膜版基底表面镀一定厚度的铬层，制作新的光刻掩膜版。