[发明专利]一种新的真空镀膜设备的偏压系统在审
申请号: | 201810970215.4 | 申请日: | 2018-08-24 |
公开(公告)号: | CN110857464A | 公开(公告)日: | 2020-03-03 |
发明(设计)人: | 张心凤;尹辉;夏正卫 | 申请(专利权)人: | 安徽纯源镀膜科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/22 | 分类号: | C23C14/22 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 230088 安徽省合肥市高*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种新的真空镀膜设备的偏压系统,包括支撑架、驱动马达、齿轮驱动装置、绝缘零件、三对相同结构的第一固定螺栓、旋转轴、偏压引入装置、两对相同结构的碳刷、固定板、一对相同结构的轴承、真空密封装置、四对相同结构的第二固定螺栓以及绝缘板共同构成的,所述驱动马达安置于支撑架上表面,所述齿轮驱动装置安置于驱动马达的旋转端上,所述绝缘零件安置于齿轮驱动装置内,三对所述第一固定螺栓安置于绝缘零件上,本发明涉及真空镀膜设备领域,该装置为两套独立的旋转偏压系统,提高薄膜粘附性、增加离子透过率、改善膜层均匀性和达到复杂曲面形状的镀膜的目的,使用起来更加的方便,结构相对简单。 | ||
搜索关键词: | 一种 真空镀膜 设备 偏压 系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
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