[发明专利]基于微波处理的非传统光伏硅片清洗干燥工艺有效
申请号: | 201810971070.X | 申请日: | 2018-08-24 |
公开(公告)号: | CN109378355B | 公开(公告)日: | 2020-05-05 |
发明(设计)人: | 曾杰 | 申请(专利权)人: | 曾杰 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/02 |
代理公司: | 淄博启智达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 37280 | 代理人: | 王燕 |
地址: | 新加坡宏茂桥区5*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及光伏硅片,具体涉及一种基于微波处理的非传统光伏硅片清洗干燥工艺。所述的清洗干燥工艺,步骤如下:将盛装光伏硅片的花篮转移至微波干燥炉中;启动微波电源,进行加热,并利用红外温度传感器监控光伏硅片表面温度;加热完成后,开启微波干燥炉上方排气口,从光伏硅片下方输入空气流,排出微波干燥炉内的废气;红外温度传感器反馈光伏硅片表面温度低于50℃,停止输入空气流,清洗干燥工艺完毕。本发明能够有效去除光伏硅片表面残余的有机物,简化了生产过程,效率高,能耗低,均匀性好,安全性高,且装置结构简单,易于操作。 | ||
搜索关键词: | 基于 微波 处理 传统 硅片 清洗 干燥 工艺 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的